在短波長光學(xué)系統(tǒng)、激光陀螺、激光武器等系統(tǒng)中，需要低于0.3nm甚至0.1nm RMS表面粗糙度的超光滑表面。

■加工目標(biāo)

表面粗糙度低于0.3nm RMS                                                           

■適用材料

熔石英、微晶、單晶硅、碳化硅等

■技術(shù)難點(diǎn)

√彈塑性超光滑                                                                                                        

■應(yīng)用領(lǐng)域

短波長光學(xué)系統(tǒng)、高能量激光器件等