MRP系列磁流體拋光機(jī)應(yīng)用案例一：高精度修形（1/32 RMS→1/902 RMS，微晶）

初始狀態(tài)：表面為光學(xué)面，面形誤差1/3入RMS。

最終狀態(tài)：面形誤差1/90入 RMS。

工藝過(guò)程：磁流變拋光。

加工時(shí)間：400mm口徑光學(xué)元件，20~50小時(shí)。

典型案例：微晶材料，口徑422mm，同軸拋物面形狀，初始面形精度0.3332 RMS，最終面形精度：0.011入 RMS，在機(jī)加工時(shí)間共25小時(shí)（第一刀15小時(shí)，第二刀5小時(shí)，第三刀5小時(shí)）。