MRP系列磁流體拋光機(jī)應(yīng)用案例二：高精度修形（0.32 RMS→1/1002 RMS，熔石英）

初始狀態(tài)：表面為傳統(tǒng)拋光后亮面，面形誤差0.32RMS左右，無明顯瑕疵。

最終狀態(tài)：表面粗糙度小于1nm，面形誤差優(yōu)于1/1002RMS，疵病等級20/10。

工藝過程：磁流變拋光。

加工時(shí)間：200mm口徑光學(xué)元件，10~12小時(shí)在機(jī)加工時(shí)間。

典型案例：微晶材料，200mm圓形截面，二次曲面面形，初始面形精度0.3082 RMS最終面形精度0.0102 RMS，在機(jī)加工時(shí)間12小時(shí)。